空白光掩膜是半导体工艺中在曝光工程使用的光掩膜的核心部件。用照片胶卷来比喻的话,拍摄前的胶片是空白光掩膜,拍摄后被转写的胶片是光掩模。随着半导体技术的发展,需要能够形成精细图案的高像素光掩模,因此必须具备能够满足这一要求的空白掩膜,SKC正在加快高端空白光掩膜的国产化速度。