空白光掩膜是半导体工艺中在曝光工程使用的光掩膜的核心部件。用照片胶卷来比喻的话，拍摄前的胶片是空白光掩膜，拍摄后被转写的胶片是光掩模。随着半导体技术的发展，需要能够形成精细图案的高像素光掩模，因此必须具备能够满足这一要求的空白掩膜，SKC正在加快高端空白光掩膜的国产化速度。
